Palas®的MFP Nano plus 4000過濾器測試臺(tái)已經(jīng)在開發(fā)和質(zhì)量控制的實(shí)際應(yīng)用中在世界各地經(jīng)過多次驗(yàn)證。

MFP Nano plus 4000過濾器測試臺(tái)專門設(shè)計(jì)用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)精確地測定HEPA和ULPA過濾介質(zhì)的分離效率。

本設(shè)備是一種現(xiàn)代且功能強(qiáng)大的納米顆粒測量設(shè)備，以U-SMPS形式，進(jìn)行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數(shù)值分析：

使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計(jì)數(shù)器在原始?xì)怏w和清潔氣體中實(shí)時(shí)測量特定尺寸的分離效率。

MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實(shí)時(shí)測量具有以下特殊優(yōu)勢：

•   通過測量原始?xì)怏w和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時(shí)間減半。
•   結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的最高測量濃度可達(dá)2,000,000顆粒/立方厘米（單計(jì)數(shù)模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的最高計(jì)數(shù)率對(duì)應(yīng)于稀釋系數(shù)為1：200。因此，不再需要常規(guī)的氣溶膠稀釋。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。

測試序列的高度自動(dòng)化設(shè)置以及清晰定義的單個(gè)組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨(dú)調(diào)整程序，共同提供高度可靠的測量結(jié)果。

MFP過濾器測試臺(tái)是用于扁平過濾器介質(zhì)和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r(shí)間內(nèi)確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負(fù)荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質(zhì)量細(xì)節(jié)

1.使用UGF 2000產(chǎn)生多種氣溶膠，用于KCl/NaCl或DEHS。集成的Nafion干燥系統(tǒng)。通過質(zhì)量流量控制器單獨(dú)調(diào)節(jié)產(chǎn)生的煙霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr-85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調(diào)節(jié)的離子流適用于不同的質(zhì)量流量?；旌峡諝?，可調(diào)節(jié)流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質(zhì)量流量控制器實(shí)現(xiàn)監(jiān)視和控制。

3.可移動(dòng)的氣動(dòng)過濾器支架，用于快速拆卸和裝載帶有集成式DEMC 2000（差動(dòng)遷移分類器）的試驗(yàn)臺(tái)。 U-SMPS包含的DEMC 2000（差分電遷移率分類器）對(duì)UGF 2000產(chǎn)生的多分散氣溶膠粒徑進(jìn)行分類。在DEMC 2000的下游僅包含單分散顆粒。DEMC 2000自動(dòng)調(diào)節(jié)相關(guān)粒徑控制單元。

4.使用UF-CPC 200進(jìn)行高濃度原始?xì)怏w測量。為了測量原始?xì)怏w中的顆粒數(shù)，UF-CPC 200冷凝顆粒計(jì)數(shù)器在單計(jì)數(shù)模式下被用于計(jì)數(shù)高達(dá)2,000,000個(gè)顆粒/立方厘米的顆粒。這意味著在高濃度原始?xì)怏w測量中不需要稀釋系統(tǒng)。無需長時(shí)間或復(fù)雜地清潔系統(tǒng)。

5. 使用UF-CPC 50對(duì)低濃度進(jìn)行清潔氣體數(shù)值分布測量
“全流量” UF-CPC 50，針對(duì)清潔氣體中的低顆粒濃度（單計(jì)數(shù)模式，最大10,000個(gè)顆粒/ cm3）進(jìn)行了優(yōu)化。
在UF-CPC的“全流量”顆粒測量中,對(duì)整個(gè)采樣體積流量進(jìn)行了全面分析。這意味著在清潔氣體中低顆粒濃度下可以實(shí)現(xiàn)很高的計(jì)數(shù)率。

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評(píng)估數(shù)據(jù)。

將氣溶膠分布調(diào)整到MPPS范圍
通過適當(dāng)調(diào)整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano + 4000中的相關(guān)MPPS范圍相匹配。

圖1：使用DEHS調(diào)節(jié)所需MPPS范圍的粒徑

圖2：在>=140 nm的MPPS范圍內(nèi)的餾分分離效率比較。

•   清晰展示整個(gè)測量范圍內(nèi)過濾介質(zhì)的分離效率。
•   精確測定MPPS范圍。
•   最高的測量重現(xiàn)性和可重復(fù)性突顯分離效率的微小差異。
•   優(yōu)化的氣溶膠應(yīng)用，使每次分離效率測量的測量時(shí)間短至兩分鐘。
•   分離效率曲線的簡單比較，也可以計(jì)算平均值

自動(dòng)化：

MFP Nano + 4000集成質(zhì)量流量控制器，用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件進(jìn)行自動(dòng)監(jiān)視和控制。

在過濾器測試期間，還會(huì)自動(dòng)記錄傳感器數(shù)據(jù)，例如過濾器的體積流量和壓差。

驗(yàn)證原始?xì)怏w和清潔氣體中的采樣是否合格：在初始培訓(xùn)過程中，將演示未經(jīng)過濾的原始?xì)怏w和清潔氣體測量符合性驗(yàn)證。

使用MFP Nano + 4000，可以在MPPS范圍內(nèi)以及整個(gè)測量范圍內(nèi)進(jìn)行餾分分離效率測量。另外，在相關(guān)的流入速度下清楚地確定介質(zhì)的相關(guān)壓力損失。

優(yōu)點(diǎn)：

•    實(shí)時(shí)測定10 nm以上顆粒的餾分分離效率
•    通過測量原始?xì)怏w和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的時(shí)間減少一半。
•    無需稀釋！
•    結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原始?xì)怏w中的最高測量濃度可達(dá)2,000,000顆粒/立方厘米（單計(jì)數(shù)模式），而UF-CPC 50在低濃度潔凈氣體中的最高計(jì)數(shù)率對(duì)應(yīng)于稀釋系數(shù)為1：200。
•    符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3的國際可比較的測量結(jié)果
•    方便地使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據(jù)要求提供）
•    方便地測量餾分分離效率并確定MPPS范圍
•    測試方法的高重復(fù)性
•    靈活的過濾器測試軟件FTControl
•    易于操作，即使未經(jīng)培訓(xùn)的人員也可以快速使用設(shè)備進(jìn)行操作
•    客戶可以獨(dú)立進(jìn)行清潔
•    設(shè)置時(shí)間短，吞吐時(shí)間快
•    可移動(dòng)設(shè)置，易于在腳輪上移動(dòng)
•    在交付前驗(yàn)收測試和交付時(shí)明確驗(yàn)證各個(gè)組件和系統(tǒng)的功能
•    運(yùn)行可靠
•    幾乎不需要維護(hù)
•    減少您的運(yùn)營費(fèi)用

應(yīng)用：

參數(shù)：