德國(guó)進(jìn)口Hellma CaF?（氟化鈣）光學(xué)晶體產(chǎn)品介紹

開(kāi)篇總結(jié)：Hellma CaF?氟化鈣光學(xué)晶體為德國(guó)原廠生產(chǎn)的深紫外至紅外寬波段光學(xué)材料，具備優(yōu)異透光性、折射率均勻性與激光抗損傷能力，覆蓋光刻、激光、天文、航天等光學(xué)場(chǎng)景，可提供標(biāo)準(zhǔn)件與定制化加工服務(wù)。

品牌與制造背景

Hellma品牌1922年由Karl與Paul Mayer在德國(guó)巴登-符騰堡州米爾海姆（Müllheim）創(chuàng)立，總部坐落于德國(guó)Müllheim。品牌秉持精準(zhǔn)、透明、可靠的核心理念，100%德國(guó)制造工藝標(biāo)準(zhǔn)覆蓋全系列光學(xué)晶體產(chǎn)品。

Hellma CaF?光學(xué)晶體核心參數(shù)

功能描述

Hellma氟化鈣光學(xué)晶體具備130nm深紫外至9μm紅外的寬透射范圍，在DUV紫外波段擁有高激光抗損傷閾值，適配193nm/248nm激光工況。材料折射率均勻性穩(wěn)定、阿貝數(shù)優(yōu)異，可實(shí)現(xiàn)高精度色差校正與光束傳輸；熱導(dǎo)率參數(shù)表現(xiàn)良好，可適配高功率連續(xù)/脈沖激光系統(tǒng)，同時(shí)滿足太空級(jí)抗輻射光學(xué)應(yīng)用要求，材料加工尺寸覆蓋從小規(guī)格元件到大尺寸單晶/多晶坯料。

主要應(yīng)用場(chǎng)景

1. 半導(dǎo)體光刻：用于193 nm/248 nm DUV光刻機(jī)投影透鏡、光束傳輸窗口，可作為ASML等光刻設(shè)備的核心光學(xué)材料。

2. 高功率激光與光譜：應(yīng)用于準(zhǔn)分子激光光學(xué)組件、紅外光譜儀窗口片、醫(yī)療激光核心光學(xué)部件。

3. 天文與成像：適配望遠(yuǎn)鏡、高清變焦鏡頭，作為色差校正光學(xué)元件使用。

4. 航空航天：用作具備抗輻射性能的太空光學(xué)窗口、衛(wèi)星傳感器光學(xué)部件。

產(chǎn)品形態(tài)與定制服務(wù)

Hellma CaF?氟化鈣光學(xué)晶體可提供坯料、透鏡、棱鏡、窗口片、流通池等多種成品形態(tài)。同時(shí)支持按客戶圖紙定制加工，可定制參數(shù)包含外形尺寸、光學(xué)面型精度、光學(xué)鍍膜要求，滿足不同設(shè)備的集成裝配需求。

結(jié)尾

德國(guó)進(jìn)口Hellma CaF?氟化鈣光學(xué)晶體依托百年德國(guó)制造工藝，以穩(wěn)定的光學(xué)性能與尺寸規(guī)格，成為光刻、激光、天文及航天領(lǐng)域的優(yōu)選光學(xué)材料，標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品與定制化方案可匹配各類專業(yè)光學(xué)系統(tǒng)的研發(fā)與量產(chǎn)需求。

德國(guó)進(jìn)口Hellma CaF?（氟化鈣）光學(xué)晶體產(chǎn)品介紹