光譜干擾

• 譜線干擾：當分析線與鄰近譜線未分開時，可通過改換優(yōu)質空心陰極燈、減小狹縫寬度或調節(jié)燈電流來優(yōu)化譜線分離效果。若存在吸收線重疊干擾，可選用其他分析線或采用化學分離法消除干擾元素。
• 背景干擾：背景干擾包括分子吸收和光散射。分子吸收可通過改用高溫火焰減少分子形成，或使用背景校正技術（如氘燈背景校正、塞曼效應背景校正）直接測量并扣除背景信號。光散射干擾可通過調節(jié)火焰觀測區(qū)高度或優(yōu)化霧化條件來降低。

物理干擾

物理干擾源于試樣與標準溶液物理性質（如黏度、表面張力）差異導致的霧化效率變化。消除方法包括：配制與試樣組成相近的標準溶液，采用標準加入法，或通過稀釋試樣降低物理性質差異。

化學干擾

化學干擾由待測元素與共存物質反應生成難揮發(fā)或難解離化合物引起。消除技巧包括：使用高溫火焰促進化合物解離；加入釋放劑（如鑭鹽、鍶鹽）與干擾元素形成更穩(wěn)定化合物以釋放待測元素；加入保護劑（如EDTA、8-羥基喹啉）與待測元素形成穩(wěn)定絡合物防止其與干擾物反應；在石墨爐原子化中加入基體改進劑提高灰化溫度或降低原子化溫度。

電離干擾

電離干擾因待測元素原子在火焰中電離成離子導致基態(tài)原子數減少。消除方法包括：控制火焰溫度，選擇合適火焰類型；加入消電離劑（如易電離的堿金屬元素）提供大量自由電子抑制電離。