產(chǎn)品介紹：
刻痕余量檢測(cè)儀采用了光學(xué)定位，光學(xué)檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)；視頻顯示“刻痕"圖像，數(shù)碼顯示“余量"數(shù)值，用于易拉蓋、易開(kāi)蓋的刻線余量的檢測(cè)（刻痕余量）。
系統(tǒng)組成：
刻痕余量檢測(cè)儀是由微小平臺(tái)定位，由光學(xué)顯微系統(tǒng)作為檢測(cè)裝置，并由光電圖像轉(zhuǎn)換器將“刻痕"的圖像傳輸?shù)斤@示器，在顯示器屏幕上將刻痕凹槽底面的圖像顯現(xiàn)在屏幕上。儀器的照明系統(tǒng)采用光纜冷光源，其照明亮度可調(diào)整。光柵微米傳感器將刻痕余量數(shù)值變?yōu)殡娦盘?hào)傳輸給數(shù)碼管顯示器進(jìn)行數(shù)值顯示。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.對(duì)焦方式采用微調(diào)模組，手動(dòng)微調(diào)對(duì)焦；
2.零點(diǎn)校準(zhǔn)后可對(duì)焦檢測(cè)并生成監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)。
規(guī)格參數(shù)：
放大倍率：900X
分辨率：0.001
重復(fù)精度：±2μm
工作臺(tái)：100×100mm
重現(xiàn)性：±0.002
移動(dòng)范圍：橫30mm、縱30mm
水平視場(chǎng)：0.55
工作距離：Z軸7mm
冷光源：12V，20W
工作電源：AC 220V，50Hz
化工儀器網(wǎng)