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納糯三維科技(上海)有限...

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進(jìn)口三維微納加工設(shè)備優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商、頭部企業(yè)推薦品牌——納糯三維Nanoscribe

閱讀:113      發(fā)布時(shí)間:2025-10-28
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  納糯三維 Nanoscribe 擁有世界領(lǐng)_先的雙光子無掩模光刻 3D 打印技術(shù),其 Photonic Professional GT 系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出傳統(tǒng)高精 3D 打印機(jī) 100 倍的三維微納器件,而全新系列 Quantum X 平臺(tái)系列更是世界上D一個(gè)基于雙光子灰度光刻(2GL®)的工業(yè)級(jí)打印系統(tǒng),納糯三維科技依托母公司的技術(shù)優(yōu)勢(shì),在微納制造技術(shù)方面處于領(lǐng)_先地位。

納糯三維科技logo

 


 
  Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。
 
微納米加工設(shè)備
關(guān)鍵特性:
 
  1、振鏡掃描技術(shù)進(jìn)行高速三維微加工,節(jié)省加工時(shí)間
 
  2、亞微米級(jí)別加工精度,完_全自由的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
 
  3、簡(jiǎn)潔的3D無掩模光刻工作流程,從CAD模型導(dǎo)入到加工產(chǎn)品僅需一步
 
  4、適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域
 
  5、廣泛的基材-樹脂組合選擇
 
  Photonic Professional GT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及廣泛的材料-基板選擇。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。
 
  Nanoscribe推出全新Quantum Xbio生物打印系統(tǒng),該多功能系統(tǒng)擁有的專有技術(shù)是以雙光子聚合(2PP)為核心,以精細(xì)的工程作為基礎(chǔ),通過生物學(xué)家的想法定制并且重新設(shè)計(jì)的。該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制、無菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點(diǎn),可讓生物打印達(dá)到一個(gè)新的高度,并有效加速組織工程、細(xì)胞生物學(xué)和生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用等關(guān)鍵應(yīng)用的創(chuàng)新。
 
  以高的打印精度和打印速度實(shí)現(xiàn)幾乎任意三維結(jié)構(gòu),以快速的設(shè)計(jì)迭代周期優(yōu)化您的研究,以廣泛的生物材料、生物墨水和生物相容性樹脂拓寬您的打印材料選擇。通過使用系統(tǒng)配備的觸控屏實(shí)現(xiàn)絲狀和復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)的高精度打印,并直觀地放置到微流控通道或孔中。
 
  這些特點(diǎn)使得Quantum Xbio生物打印系統(tǒng)成為創(chuàng)建微觀環(huán)境的最佳工具,可用于組織工程、細(xì)胞研究的定制支架,以及其他許多對(duì)精度、速度、材料多樣性和無菌性有著較高要求的創(chuàng)新的生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用。
 
  Quantum Xbio讓您站在探索生物和生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用的前沿。系統(tǒng)配備無菌和可溫控的基底支架,無菌配件,生物材料和生物墨水,并且兼容其他定制材料。有了Quantum Xbio,您就可以探索活體細(xì)胞打印的世界。
 
  探索生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用
 
  1、細(xì)胞支架——皮膚/組織模型
 
  2、智能/活體材料——微流控技術(shù)
 
  3、微針陣列——藥物輸送載體
 
  4、納米/柔性機(jī)器人——血管模型
 
  5、生物傳感器——亞微米級(jí)圖案設(shè)計(jì)
 
  6、細(xì)胞力學(xué)和遷移的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)
 
  【公司定位】納糯三維Nanoscribe作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者,從科研實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng),Nanoscribe提供全方_位高精度增材制造解決方案,顯著簡(jiǎn)化制造流程、提升效率與精度。
 
  【公司資質(zhì)】Nanoscribe 的 2GL® 技術(shù)受中國國家專_利保護(hù)(專_利號(hào):CN110573291B)  A2PL技術(shù)受中國國家專_利保護(hù)  ( CN109997081B )
 
  【主營業(yè)務(wù)】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進(jìn)封裝、光互聯(lián)納米制造
 
  【應(yīng)用領(lǐng)域】微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)
 
  【產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)】Nanoscribe 公司擁有世界領(lǐng)_先的雙光子無掩模光刻 3D打印技術(shù),全新Quantum X系列具有專_利雙光子灰度光刻(2GL®),可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造,A2PL® 技術(shù)支持自動(dòng)檢測(cè)芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預(yù)結(jié)構(gòu)化基底上的定位標(biāo)記,并以納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)精度在指定位置直接打印自由曲面光學(xué)元件,確保打印結(jié)構(gòu)與光學(xué)軸嚴(yán)格對(duì)齊。
 
  【產(chǎn)品評(píng)價(jià)】Quantum X align 系統(tǒng)代表了新一代對(duì)準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向,可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造,并具備自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)能力,從而支持可靠、低損耗的光子耦合,以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.
 
  【品牌客戶】哈佛大學(xué),加州理工學(xué)院,牛津大學(xué),斯圖加特大學(xué),麻省理工學(xué)院等
 
  【技術(shù)領(lǐng)域】3D微納加工、雙光子加工
 
  【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe 的技術(shù)在各項(xiàng)關(guān)鍵性突破研究中被提到,出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評(píng)審的期刊出版物中
 

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