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首頁>>上海波銘科學(xué)儀器有限公司>>產(chǎn)品展示>>波銘科儀

  • 手動(dòng)光耦合系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    手動(dòng)耦合臺(tái),比較經(jīng)濟(jì),靈活,適合于實(shí)驗(yàn)室剛剛啟動(dòng)階段??梢约嫒輪芜匜A耦合,如:U形波導(dǎo)耦合單邊光纖跟LD的耦合,如:COC測(cè)試雙邊光纖跟芯片耦合,如:直波導(dǎo)耦...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    手動(dòng)光耦合系統(tǒng)
    2025/12/24 20:31:07595
  • 全電動(dòng)硅波導(dǎo)耦合測(cè)試臺(tái) 參考價(jià):面議

    全電動(dòng)硅波導(dǎo)耦合測(cè)試臺(tái)選型詳細(xì)說明1.六軸電動(dòng)調(diào)節(jié)架2.控制部分3.夾具部分4.獨(dú)立式多維度觀察系統(tǒng)
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    全自動(dòng)硅波導(dǎo)耦合測(cè)試臺(tái)
    2025/12/24 20:29:33469
  • ODMR四族半導(dǎo)體光探測(cè)磁共振譜儀 參考價(jià):面議

    該系統(tǒng)利用 double-pass 聲光調(diào)制技術(shù)實(shí)現(xiàn)激光束的高開關(guān)比,連續(xù)激光依次通過偏振光分束器、聲光調(diào)制器、四分之一波片,光束正入射在反射鏡后沿原路返回,第...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    ODMR半導(dǎo)體光探測(cè)磁共振譜儀
    2025/12/24 20:27:43529
  • alpha300 R顯微拉曼成像光譜儀 參考價(jià):面議

    一直以來,WITec alpha300 R 拉曼顯微系統(tǒng)以其世界前沿的成像技術(shù)倍受認(rèn)可,靈活、快速、高靈敏度、高性能等特性,使其成為共聚焦拉曼成像市場(chǎng)的帶頭人。...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    R顯微拉曼成像光譜儀
    2025/12/24 20:24:37519
  • RTS2多功能激光共聚焦顯微拉曼光譜儀 參考價(jià):面議

    RTS2 多功能激光共聚焦顯微拉曼光譜儀,基于新一代顯微共焦技術(shù),具有良好擴(kuò)展性,可根據(jù)需求拓展為以拉曼為主要功能的顯微光譜工作站,是您科學(xué)研究的優(yōu)質(zhì)選擇!
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    激光共聚焦顯微拉曼光譜
    2025/12/24 20:22:13502
  • OmniFluo-FLIM 系列顯微熒光壽命成像系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    OmniFluo-FLIM系列顯微熒光壽命成像系統(tǒng)由科研級(jí)正置顯微鏡,配合多波長(zhǎng)光路轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu),實(shí)現(xiàn)一套系統(tǒng)多波長(zhǎng)激發(fā)的靈活應(yīng)用,適應(yīng)不同樣品測(cè)試需求。高精度平移...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    顯微熒光壽命成像OmniFluo-FLIM系列
    2025/12/24 20:19:46527
  • OmniFluo900系列穩(wěn)態(tài)瞬態(tài)熒光光譜儀 參考價(jià):面議

    OmniFluo900系列熒光光譜儀擁有穩(wěn)態(tài)熒光和瞬態(tài)熒光光譜儀兩大系列產(chǎn)品。本系統(tǒng)以高性能Omni-λ 系列單色/光譜儀、高亮度復(fù)色光源及多波長(zhǎng)單色光源、高靈...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    熒光光譜儀瞬態(tài)
    2025/12/24 20:17:27533
  • SIRM紅外體微缺陷分析儀 參考價(jià):面議

    SIRM是非接觸和非破壞型光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,對(duì)體微缺陷,如氧化物和金屬沉淀,位錯(cuò)、堆垛層錯(cuò),體材料中的滑線和空隙等進(jìn)行測(cè)試。這個(gè)技術(shù)也可對(duì)GaAs 和 InP等復(fù)合...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    體微缺陷測(cè)試
    2025/12/24 18:43:251564
  • LST體微缺陷測(cè)試設(shè)備 參考價(jià):面議

    LST是檢測(cè)半導(dǎo)體材料的體微缺陷有力工具,通過CCD相機(jī),對(duì)入射光在樣品邊沿的散射進(jìn)行掃描,獲得體微缺陷分布信息。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    體微缺陷測(cè)試
    2025/12/24 18:41:171689
  • 非接觸遷移率測(cè)試系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    LEIModel1605,是非接觸遷移率測(cè)試系統(tǒng),可對(duì)各種半導(dǎo)體材料和器件結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)試。無需制樣,消除了樣品制備引起的遷移率變化。
    型號(hào): LEIModel1... 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    方塊電阻
    2025/12/24 18:39:081167
  • 非接觸方塊電阻測(cè)試系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    LEI88 是針對(duì)科研類客戶開發(fā)的產(chǎn)品,具備非接觸快速測(cè)試方塊電阻和電導(dǎo)率功能。
    型號(hào): LEI88 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    方塊電阻
    2025/12/24 18:37:261233
  • 非接觸Hall和方塊電阻測(cè)試系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    非接觸Hal和方塊電陽測(cè)試系統(tǒng),可對(duì)GaAs,InP,InAs,GaN,AIN,Si,SiC等各種半導(dǎo)體材料設(shè)計(jì)的HEMTs,pHEMTs,HBTs,FETs器...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    方塊電阻
    2025/12/24 18:35:321381
  • SRP 擴(kuò)展電阻測(cè)試 參考價(jià):面議

    SRP 測(cè)試系統(tǒng),采用擴(kuò)展電阻率技術(shù)(SRP),對(duì)載流子濃度和電阻率隨深度的變化做快速測(cè)試。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    方塊電阻
    2025/12/24 18:33:592165
  • 準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)-光致發(fā)光測(cè)試設(shè)備 參考價(jià):面議

    準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)-光致發(fā)光可以將QSS準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)少子壽命測(cè)試和PL光致發(fā)光技術(shù)相結(jié)合,快速獲得樣品的少子壽命分布圖譜信息。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    光致發(fā)光
    2025/12/24 18:32:131254
  • 光致發(fā)光檢測(cè)設(shè)備 參考價(jià):面議

    光致發(fā)光主要對(duì)材料能帶結(jié)構(gòu),雜質(zhì)濃度和缺陷,組分機(jī)理以及材料質(zhì)量進(jìn)行檢測(cè)。WT-2000PL專門針對(duì)PL應(yīng)用開發(fā),具有非接觸,快速,可變溫,光斑等特點(diǎn)。
    型號(hào): WT-2000PL 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    光致發(fā)光
    2025/12/24 18:30:351392
  • PV-2000A 光伏多功能掃描系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    Semilab PV-2000A是業(yè)界功能最(zui)先進(jìn)的,用于晶硅太陽能電池片生產(chǎn)及光伏工藝研發(fā)的非接觸電學(xué)表征系統(tǒng),以滿足硅片到成品電池片不同工藝控制的測(cè)...
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    少子壽命
    2025/12/24 18:29:011405
  • 汞探針測(cè)試 參考價(jià):面議

    LEI Model2017B,通過汞探針接觸方法,對(duì)各類半導(dǎo)體材料的載流子濃度分布進(jìn)行測(cè)試,特別適合GaN.SiC等化合物材料。
    型號(hào): LEI Model... 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    汞探針測(cè)試
    2025/12/24 18:26:511208
  • 汞CV測(cè)試系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    汞CV測(cè)試系統(tǒng),用于對(duì)外延或前道工藝中的non-pattemed晶片做汞C-V測(cè)試;MCV-530L可測(cè)最大200mm的樣品。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    CV測(cè)試
    2025/12/24 18:24:581491
  • CV-1500非接觸CV測(cè)試系統(tǒng) 參考價(jià):面議

    CV-1500,用于測(cè)試界面和介電層的科研平臺(tái),基于SDI Corona-Kelvin技術(shù),可以進(jìn)行非接觸C-V/I-V測(cè)試。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    CV測(cè)試
    2025/12/24 18:23:011569
  • 深能級(jí)瞬態(tài)譜測(cè)試儀 參考價(jià):面議

    深能級(jí)瞬態(tài)譜儀(DLTS)是檢測(cè)半導(dǎo)體材料和器件缺陷和雜質(zhì)的最好技術(shù)手段,它可以測(cè)定各種深能級(jí)相關(guān)參數(shù),如深能級(jí),俘獲界面,濃度分布等。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    瞬態(tài)譜
    2025/12/24 18:20:581332
  • 納米壓痕測(cè)試設(shè)備 參考價(jià):面議

    對(duì)小體積樣品材料力學(xué)性質(zhì)進(jìn)行定量化測(cè)試的關(guān)鍵技術(shù)。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    納米壓痕測(cè)試
    2025/12/24 18:19:261344
  • 原子力顯微鏡 參考價(jià):面議

    原子力顯微鏡使用非常小的探針,掃描樣品表面,在原子尺度探測(cè)樣品形貌。Semilab的AFM設(shè)備,可靈活配置和測(cè)試,具備優(yōu)異測(cè)試穩(wěn)定性和可靠性。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    原子力顯微鏡
    2025/12/24 18:14:411407
  • 反射譜成像技術(shù) 參考價(jià):面議

    iSR是一種微光斑測(cè)試技術(shù),用于實(shí)時(shí)刻蝕和Halftone工藝中的厚度測(cè)試
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    反射譜成像
    2025/12/24 18:13:021062
  • 光譜型橢偏儀 參考價(jià):面議

    光譜型橢偏儀是多功能薄模測(cè)試系統(tǒng),適合各種薄材料的研究。
    型號(hào): 廠商性質(zhì):生產(chǎn)商所在地:上海市 對(duì)比
    橢偏儀
    2025/12/24 18:09:001542

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