一 ACS200 Gen3 涂布機和顯影劑

多功能底架提供了多種配置可能性，例如，多達 4 個濕法工藝模塊（涂布機和/或顯影劑），最多可容納 19 塊板，或者 2 個濕法工藝模塊和 2 個噴涂機模塊，最多可容納 13 塊板。

ACS200 Gen3 可以在每個濕法工藝模塊上堆疊多達 3 塊板，在第 5 個模塊中最多堆疊 7 塊板，從而實現(xiàn)了同類產(chǎn)品中最大的模塊數(shù)量。

不同的 I/O 系統(tǒng)可滿足任何需求。2x I/O滿足研發(fā)要求，而新設計的自動裝載盒站可實現(xiàn)連續(xù)運行，而無需停止系統(tǒng)進行盒更換。

涂布機碗提供開放式碗涂層和 GYRSET® 封閉式涂層技術。轉(zhuǎn)鼓設計提供了使用一次性工藝轉(zhuǎn)鼓進行操作的可能性，而不會影響流量動態(tài)或排氣流量。由于轉(zhuǎn)鼓易于清潔并減少了維護時間，因此它簡化了使用不方便或不尋常材料的操作。ACS200 Gen3 可以在每個涂布機模塊的 2 個不同的分配臂上分離溶劑和抗蝕劑線，因此遵循了提供出色產(chǎn)量的道路。

對于開發(fā)應用，可以配置水性或溶劑顯影劑模塊。有多種不同的噴嘴類型可供選擇，以滿足任何工藝要求。

與SUSS曝光系統(tǒng)的直接連接可提高產(chǎn)量，因為完整的光刻工藝流程無需操作員干預。

可選的過濾風扇單元和工具的溫度/濕度控制可實現(xiàn)工藝穩(wěn)定性、可重復性，并最終實現(xiàn)高產(chǎn)量。

二、企業(yè)簡介：

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。