KRi 離子源應(yīng)用于藍(lán)玻璃 AR工藝
- 公司名稱 伯東企業(yè)（上海）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2023/7/4 16:25:15
- 訪問(wèn)次數(shù) 671
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| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 |
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KRi 離子源應(yīng)用于藍(lán)玻璃 AR 工藝
配備 800萬(wàn)或以上像素的手機(jī)都基本內(nèi)嵌藍(lán)玻璃濾光片的攝像頭. 藍(lán)玻璃濾光片通過(guò) AR Coating 的鍍膜, 可以增加透光率和反射紅外光. 光線在透過(guò)不同介質(zhì)時(shí)會(huì)產(chǎn)生折射和反射, 當(dāng)加上單面 AR Coating 后, 濾光片會(huì)提升3～5%的透光率, 讓圖像更清晰且讓濾光片不容易起霧. 上海伯東協(xié)助某從事光學(xué)玻璃鍍膜機(jī)生產(chǎn)的客戶, 在光學(xué)鏡頭材料藍(lán)玻璃 AR工藝方面實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破！
經(jīng)過(guò)推薦客戶采用光學(xué)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 在離子清洗, 輔助沉積時(shí), 提高藍(lán)玻璃的薄膜 / 基層物的附著性和硬度, 減少吸收殘余氣體的污染物和薄膜應(yīng)力. 上海伯東美國(guó) KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩(wěn)定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 解決了在藍(lán)玻璃上無(wú)法達(dá)到高質(zhì)量鍍膜要求的問(wèn)題, 同時(shí)也提升了企業(yè)生產(chǎn)效能.
應(yīng)用方向: 離子清洗, 輔助沉積
應(yīng)用領(lǐng)域: 光學(xué)鏡頭
薄膜工藝: 藍(lán)玻璃鍍 AR增透膜
產(chǎn)品類別: 濾光片
鍍膜設(shè)備: 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 配置美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 380
測(cè)試環(huán)境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續(xù) 1,500 小時(shí)高溫高濕嚴(yán)苛環(huán)境測(cè)試
上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理.
美國(guó) KRi RFICP 射頻離子源技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽(yáng)極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
若您需要進(jìn)一步的了解 KRi 射頻離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生
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