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激光加熱基座晶體生長爐（LHPG）具有無坩堝、無污染、溫度梯度大、生長速度快、適合生長高熔點(diǎn)的高質(zhì)量晶體等*勢。

微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)（MPCVD）制造的微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶...

德國SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達(dá)850°C，壓力可達(dá)150個大氣壓?？捎糜诟邏壕w生長的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。

德國SciDre 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達(dá)300Bar，甚至10-5mBar的高真空。適用于生長各種超導(dǎo)...

日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對SiC以...

美國Thermal Technology熱壓爐是為同時需要高溫和高壓的復(fù)雜實(shí)驗(yàn)或研究工作而開發(fā)設(shè)計(jì)的。主要應(yīng)用于粉末材料的稠化、固體部件的擴(kuò)散粘結(jié)、纖維復(fù)合材料...

美國Thermal Technology實(shí)驗(yàn)室真空高溫爐適用于各種實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用及小規(guī)模生產(chǎn)。操作簡單，性能穩(wěn)定，有石墨高溫爐和金屬高溫爐可選，可定制溫度達(dá)3000...

美國Thermal Technology電弧熔煉爐可以有效的應(yīng)用于粉末熔煉、電弧鑄造，金屬、化合物材料的合成。BJ5電弧熔煉爐操作方便，可靠性高，通用性強(qiáng)，同時...

美國Thermal Technology自動熱處理爐/陶瓷熱處理爐，全自動、無人值守操作，Z高可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時升溫速率100℃/min，...

高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐是適用于生長各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。浮區(qū)法單晶爐中的轉(zhuǎn)動以及拉伸等控制部分采用了電子控制，與傳統(tǒng)的...

Quantum Design公司近日推出新款高精度光學(xué)浮區(qū)法單晶爐,這款高性能單晶爐采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設(shè)計(jì)，溫度可達(dá)2100-2200攝氏度,系統(tǒng)采用高...

QuickPress活塞圓筒高壓裝置廣泛應(yīng)用于高溫高壓實(shí)驗(yàn)研究域，可進(jìn)行有關(guān)地球科學(xué)、高壓物理、凝聚態(tài)物理、固體化學(xué)、材料科學(xué)等方面的研究。