PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

1. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染；

2. 上開啟式結(jié)構(gòu)，方便觀察試樣；

3. 產(chǎn)品采用全自動控制方式，觸摸屏，數(shù)字化顯示；

4. 設(shè)備一體化程度高；

5. 穩(wěn)定的射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質(zhì)量；

產(chǎn)品型號 NBD-PECVD1200-80TI

電氣規(guī)格 AC220V    4KW

可達溫度 1200 ℃

連續(xù)溫度 1150℃

可達加熱速率 ≤  20 ℃/分鐘

射頻電源 300或500W   13.56MHz

爐管尺寸 Φ80*1200mm

PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

控制系統(tǒng)  

1、NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式，實時加熱功率顯示，非線性式樣溫度修正；實驗報告自主生成，實驗數(shù)據(jù)無限次導(dǎo)出。

2、實驗過程更加直觀，操作更加便捷；3、具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。

溫度精度 +/- 1 ℃

加熱元件  Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封系統(tǒng)    

真空度：≤10Pa（機械泵）

壓力測量與監(jiān)控  采用數(shù)顯真空計，可使設(shè)備真空度更加直觀，實驗結(jié)果更加準確。

供氣系統(tǒng)  采用兩路質(zhì)子流量計精確控制氣體流速，與設(shè)備集成為一體；

凈重 360KG

設(shè)備使用注意事項 

1、設(shè)備爐膛溫度≥300℃時，禁止打開爐膛，避免受到傷害；

2、設(shè)備使用時，爐管內(nèi)壓力不得超過0.125MPa（絕對壓力），以防止壓力過大造成設(shè)備損壞；

3、真空下使用時，設(shè)備使用溫度不得超過800℃。

4、供氣鋼瓶內(nèi)部氣壓較高，向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在選購試驗用小壓力減壓閥，減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時會更加精確安全。

5、當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓 相當，保持在常壓狀態(tài)；

6、高純石英管的長時間使用溫度≦1100℃

7、加熱的實驗時，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若絕對壓力表讀數(shù)大于0.15MPa，必須立刻打開排氣端閥門，以防意外發(fā)生（如爐 管破裂，法蘭飛出等）

服務(wù)支持 1年質(zhì)保，提供終身支持（保修范圍內(nèi)不包括易耗部件，例如爐管和密封圈等）。