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Hellma氟化鈣LD-A-級CaF? 193nm深紫外光學(xué)應(yīng)用
閱讀：127 發(fā)布時間：2026-2-9Hellma氟化鈣LD-A-級CaF? 193nm深紫外光學(xué)應(yīng)用
在深紫外（DUV）光學(xué)檢測、光刻、激光加工、光譜分析等領(lǐng)域，光學(xué)窗口、棱鏡、透鏡等核心元件的材料性能直接決定系統(tǒng)的精度與穩(wěn)定性。德國Hellma Analytics旗下的LD-A-級氟化鈣（CaF?）晶體，針對193nm深紫外波長優(yōu)化制備工藝，具備極低的深紫外吸收、超高的光學(xué)均勻性、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性與化學(xué)惰性，成為193nm波段光學(xué)系統(tǒng)的材料。該型號氟化鈣晶體突破了傳統(tǒng)光學(xué)材料在深紫外波段的性能瓶頸，其技術(shù)優(yōu)勢在半導(dǎo)體光刻、深紫外光譜分析、激光微加工、環(huán)境監(jiān)測等行業(yè)的應(yīng)用中得到充分驗(yàn)證，奠定了Hellma在光學(xué)晶體領(lǐng)域的地位。
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）核心技術(shù)優(yōu)勢解析
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）作為超高純度氟化鈣晶體的規(guī)格，核心優(yōu)勢體現(xiàn)在光學(xué)性能、晶體品質(zhì)、機(jī)械特性、環(huán)境適配四大維度，針對193nm深紫外波段的應(yīng)用痛點(diǎn)形成系統(tǒng)性解決方案：
極低的深紫外吸收，保障193nm波段高透光率
Hellma LD-A-級CaF?晶體采用**真空坩堝下降法（VB法）** 結(jié)合區(qū)熔提純工藝制備，原料選用99.9999%（6N）超高純氟化鈣，雜質(zhì)含量（如Fe、Cu、Si、OH?等）控制在ppb級別。在193nm深紫外波段，該晶體的線性吸收系數(shù)≤0.001 cm?1，遠(yuǎn)低于普通工業(yè)級CaF?（吸收系數(shù)≥0.01 cm?1），室溫下對193nm波長的透光率≥92%（10mm厚度），且透光率在-50℃~+200℃溫度范圍內(nèi)波動≤0.5%，無明顯的溫度誘導(dǎo)吸收峰。
同時，晶體經(jīng)特殊的表面拋光工藝處理，表面粗糙度Ra≤0.5nm，表面平整度≤λ/20（λ=632.8nm），有效降低193nm波段的表面反射損耗，鍍膜后的光學(xué)元件反射率可控制在≤0.1%@193nm，大化提升深紫外光的傳輸效率，避免因材料吸收或反射導(dǎo)致的光學(xué)系統(tǒng)能量損耗與熱畸變沈陽漢達(dá)森yyds吳亞男。