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原位拉曼電化學反應池 參考價：面議
原位拉曼電化學反應池主要用于觀察電極材料在電化學實驗中的原位光譜變化，以此來探究電極材料在電化學反應時化學結構的變化。該裝置配有參比電極和對電極，可提供三電極體...
原位拉曼電化學反應池 參考價：面議
原位拉曼電化學反應池主要用于觀察電極材料在電化學實驗中的原位光譜變化，以此來探究電極材料在電化學反應時化學結構的變化。該裝置配有參比電極和對電極，可提供三電極體...
原位拉曼電化學反應池 參考價：面議
原位拉曼電化學反應池主要用于觀察電極材料在電化學實驗中的原位光譜變化，以此來探究電極材料在電化學反應時化學結構的變化。該裝置配有參比電極和對電極，可提供三電極體...
原位拉曼電化學反應池 參考價：面議
原位拉曼電化學反應池主要用于觀察電極材料在電化學實驗中的原位光譜變化，以此來探究電極材料在電化學反應時化學結構的變化。該裝置配有參比電極和對電極，可提供三電極體...
原位拉曼電化學反應池 參考價：面議
原位拉曼電化學反應池主要用于觀察電極材料在電化學實驗中的原位光譜變化，以此來探究電極材料在電化學反應時化學結構的變化。該裝置配有參比電極和對電極，可提供三電極體...
原位拉曼高溫反應池 參考價：面議
原位拉曼高溫反應池主要用于觀察高溫條件下樣品的拉曼光譜變化，以此來探究高溫對樣品物相結構的影響。該裝置主要包含有池體（高溫爐體）、加熱系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、...
原位拉曼高溫反應池 參考價：面議
原位拉曼高溫反應池主要用于觀察高溫條件下樣品的拉曼光譜變化，以此來探究高溫對樣品物相結構的影響。該裝置主要包含有池體（高溫爐體）、加熱系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、...
光電催化XRD反應池 參考價：面議
光電催化XRD反應池應用于光電催化反應的原位XRD表征，池體頂部開有石英光窗，池體左右側開有聚酰亞胺窗口，配有參比電極、對電極及工作電極，可以在不同波長光照，不...
原位紅外漫反射附件 參考價：面議
原位紅外漫反射附件：采用兩個6.3:1，90°鍍金離軸橢球面，能量反射率更高且鏡面更耐腐蝕;可減小鏡面反射的影響; 搭配帶有滑軌的底板可調節(jié)漫反射附件的位置，以...
高低溫漫反射池 參考價：面議
高低溫漫反射池：設計溫度：-150℃~300℃；設計壓力：負壓（-150℃~RT），3MPa（RT~300℃）；池體材質：池體池蓋 316L； 窗片材質：石英；...
原位紅外透射系統(tǒng) 參考價：面議
原位紅外透射系統(tǒng)主要用于研究樣品在不同溫度和氣體環(huán)境下的紅外光譜特征。產品主要由反應池、混氣控制系統(tǒng)及溫度控制系統(tǒng)三部分構成。其中反應池主體采用316L不銹鋼材...
放電等離子焦耳加熱裝置 參考價：面議
放電等離子焦耳加熱裝置是一款先進的快速燒結設備。采用雙層方形腔體，具有水冷功能;反應腔內部可提供真空，氣氛，等離子體燒結環(huán)境;具備快速，恒溫，熱沖擊等升溫模式;...
外場輔助焦耳加熱/自蔓延材料制備裝置 參考價：面議
外場輔助焦耳加熱/自蔓延材料制備裝置可為材料熱處理過程提供熱場、電場、磁場、淬火及氣氛輔助環(huán)境。通過控制外場強度可實現(xiàn)對合成材料的輔助控制；熱處理模式有焦耳加熱...
熱壓焦耳儀 超快速高溫熱壓燒結材料設備 參考價：面議
超快速高溫熱壓燒結:通過結合快速升溫（≥2000℃/min）和高壓(≤10T)技術，可以顯著縮短燒結時間,確保粉末顆粒之間更牢固地結合,從而制備具有高致密度的材...
保溫款焦耳加熱裝置 快速升溫材料處理設備 參考價：面議
保溫款焦耳加熱裝置是一款兼具快速升溫，節(jié)能環(huán)保的設備，具有保溫時間長，控溫精準，單次處理量大等優(yōu)點。該裝置有完整密閉的不銹鋼加熱腔體，腔體采用雙層一體化結構設計...
焦耳加熱裝置 毫秒級升溫1000-3000℃ 參考價：面議
焦耳加熱裝置是一種新型快速熱處理/合成的設備，該設備可使材料在（毫秒級/秒級）時間內達到溫度（1000~3000℃），升溫速率可達到10000k/s；通過對材料...
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