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PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)
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ATLANT3D推出了直接原子層加工技術(shù)——能實(shí)現(xiàn)原子級精度、無掩模直
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等離子增強(qiáng)型原子層沉積設(shè)備(ALD)-TFS200
BeneqTFS200專為學(xué)術(shù)和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì),是一款用途廣泛的原子層沉
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派瑞林真空鍍膜機(jī) Parylene鍍膜系統(tǒng)
派瑞林真空鍍膜機(jī)Parylene鍍膜系統(tǒng)專為實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用優(yōu)化設(shè)計(jì),配備內(nèi)
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AT810 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備
AT810經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備是小占地面積臺(tái)式系統(tǒng)。采用半導(dǎo)體級金
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AT610 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備
AT610經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備是小占地面積臺(tái)式系統(tǒng)。采用半導(dǎo)體級金
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卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備主要應(yīng)用于計(jì)算機(jī)和智能手機(jī)屏幕,超輕
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AT650/850T 臺(tái)式熱原子層沉積設(shè)備
AT650/850T臺(tái)式熱原子層沉積設(shè)備,具備現(xiàn)場升級為等離子體模式的能
- PECVD系統(tǒng)(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積):低溫高效薄膜制備的核心技術(shù)
- 如何優(yōu)化等離子體原子層沉積工藝提高薄膜質(zhì)量?
- CVD氣相沉積的安全性與環(huán)境影響管理
- 沉積系統(tǒng):精準(zhǔn)構(gòu)筑薄膜“微結(jié)構(gòu)”,賦能半導(dǎo)體與新材料創(chuàng)新?
- 如何提高PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積的沉積速率?
- 如何通過原子層沉積系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)納米尺度的薄膜控制?
- 如何提高粉末原子層沉積的沉積速率與均勻性?
- 分子層沉積的基礎(chǔ)原理與技術(shù)解析
- 等離子體原子層沉積技術(shù)在電子器件制造中的潛力
- 探索桌面式原子層沉積系統(tǒng)的多功能應(yīng)用領(lǐng)域
公眾號:chem17
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